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Seminário - O agravo após a Lei nº 11.187/05

segunda-feira, 23 de janeiro de 2006

Atualizado em 24 de janeiro de 2006 12:11


Seminário


O agravo após a Lei nº 11.187/05

  • Data: 9/2
Horário: 9h às 12h
  • Local: Century Paulista, Rua Teixeira da Silva, 647, SP
  • Objetivo


    A Lei Federal nº 11.187/05, que alterou a redação dos artigos 522, 523 e 527 do Código de Processo Civil, promoveu substanciais mudanças na legislação relativa ao recurso de agravo, limitando as hipóteses de cabimento de agravo de instrumento e lançando aos operadores do Direito alguns desafios de interpretação das novas normas. O seminário terá como objetivo delimitar e esclarecer as principais alterações promovidas na legislação processual pertinente ao recurso de agravo.


    Público Alvo


    advogados, magistrados, estagiários e demais operadores do direito que atuam na área de direito processual civil.


    Programação


    9h - 9h20 - Credenciamento


    9h20 - 10h15

    • Antonio de Pádua Notariano Junior

    Mestre e Doutorando em direito processual civil pela PUC/SP, professor de direito processual civil da FMU, autor de diversos artigos e livros; Sócio de Notariano Advogados Associados.

    • Visão geral do agravo de instrumento e do agravo retido após a Lei nº11.187/05: cabimento e procedimento.
    • As decisões proferidas em audiência de instrução e julgamento e o agravo retido oral
    • A reforma da decisão do relator (art. 527, parágrafo único).

    10h15 - 10h30 - Perguntas e discussão


    10h30 - 10h50 - Coffee Break


    10h50 - 11h45

    • Gilberto Gomes Bruschi,

    Advogado; Mestre e doutorando em Processo Civil pela PUC/SP; Coordenador do curso de pós-graduação lato sensu em Processo Civil da Faculdade de Direito de Itu - FADITU; Membro do corpo docente do curso de pós-graduação lato sensu da Universidade Presbiteriana Mackenzie, como professor palestrante convidado; Professor no curso preparatório para carreiras jurídicas da Rede de Ensino Luiz Flávio Gomes - LFG; Sócio efetivo do Instituto Brasileiro de Direito Processual - IBDP; Autor de diversas obras, entre elas: Incidente Defensivo no Processo de Execução e Aspectos Processuais da Desconsideração da Personalidade Jurídica; Processo de Execução - Temas Polêmicos e Atuais; Co-autor da obra AGRAVO contra as Decisões de Primeiro Grau pela Editora Método, além de vários artigos publicados em revistas especializadas.

    • Possíveis interpretações e respectivas conseqüências da nova redação do "caput" do art. 522 do CPC ("lesão grave e de difícil reparação") -O agravo de instrumento e a regra geral de conversão;
    • Casos em que o agravo retido seria inócuo.
    • Efeitos suspensivo e ativo ao agravo de instrumento.
    • Regras de direito intertemporal.

    11h45 - 12h - Perguntas e discussão


    Coordenação Acadêmica


    - Mauro Scheer Luís


    bacharel em direito pela Universidade Presbiteriana Mackenzie, advogado atuante na área empresarial, com formação em PNL - Programação Neurolingüística - pela Sociedade Brasileira de Programação Neurolingüística, tendo participado de diversos treinamentos e cursos de formação gerencial, no Brasil e no Exterior (Alemanha e Inglaterra), presidente da Central Prática Consultoria e Treinamento.


    Observações


    *Estão inclusos no valor do investimento: material de apoio (constituído por apostila contendo os slides projetados no datashow, estacionamento (Rua Teixeira da Silva, 647, Paraíso - São Paulo/SP) e um coffee break.


    *A programação do evento está confirmada, podendo ocorrer substituições de organizações/palestrantes, respeitados os temas propostos.


    *A confirmação da realização do seminário está sujeita a quorum mínimo; no caso de cancelamento, todo e qualquer valor pago a título de inscrição será devolvido, porém não nos responsabilizamos por gastos com passagens aéreas, traslados, hospedagem ou qualquer outra despesa.


    Realização

    • Central Prática Consultoria e Treinamento

    __________________


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    INFORMAÇÕES E INSCRIÇÕES


    TELEFONE


    (11) 5521-2150


    ou


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